Запис Детальніше

The Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films

Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title The Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films
 
Creator Altinkok, A.
Takamura, Y.
Goncalves, Rafael S.
Loreto, Renan P.
Cascales, Juan P.
Zenk, H.
Moodera, Jagadeesh S.
 
Contributor Department of Electrical and Electronics, Giresun University, Giresun, Turkey
Francis Bitter Magnet Laboratory, Massachusetts Institute of Technology (MIT)
Cambridge Massachusetts, United States
JSPS, Japan
Tokyo Institute of Technology, Japan
Federal Univ. of Viçosa, Brazil
 
Date 2018-04-02T13:41:19Z
2018-04-02T13:41:19Z
2017-05-29
2017-05-29
 
Type Conference Abstract
 
Identifier The Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films / A. Altinkok, Y. Takamura, Rafael S. Goncalves, Renan P. Loreto, Juan P. Cascales, H. Zenk, Jagadeesh S. Moodera // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 40. — (1 technology of active media for electronic engineering).
http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/40136
The Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films / A. Altinkok, Y. Takamura, Rafael S. Goncalves, Renan P. Loreto, Juan P. Cascales, H. Zenk, Jagadeesh S. Moodera // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 40. — (1 technology of active media for electronic engineering).
 
Language en
 
Relation Оксидні матеріали
електронної техніки –
отримання, властивості,
застосування : збірник
тез міжнародної наукової конференції, 2017
Oxide Materials
for Electronic Engineering –
fabrication, properties
and applications : book
of abstracts international conference, 2017
 
Rights © Національний університет “Львівська політехніка”, 2017
 
Format 40
1
application/pdf
image/png
 
Coverage 29 травня–2 червня, 2017
Львів, Україна
May 29–June 2, 2017
Lviv, Ukraine
Львів
Lviv