Запис Детальніше

Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора
 
Creator Журавлев, А.Ю.
Шиян, А.В.
Семенов, Н.А.
Широков, Б.М.
 
Subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
 
Description Представлены результаты исследований получения карбида бора водородным восстановлением треххлористого бора (BCl₃) в парах толуола (C₇H₈). Рассмотрены термодинамика процесса осаждения, газодинамические параметры парогазового потока при обтекании покрываемой поверхности в проточном реакторе. Исследованы кинетические особенности осаждения карбида бора в системе BCl₃-C₇H₈-H₂.
Представлено результати досліджень отримання карбіду бору водневим відновленням трихлористого бору (BCl₃) у парах толуолу (C₇H₈). Розглянуто термодинаміку процесу осадження, газодинамічні параметри парогазового потоку при обтіканні поверхні, що покривається, у проточному реакторі. Досліджено кінетичні особливості осадження карбіду бору в системі BCl₃-C₇H₈-H₂.
This paper presents the results of studies produce boron carbide hydrogen reduction of boron trichloride (BCl₃) and (C₇H₈) in toluene vapor. Considered the thermodynamics of the deposition process, gas-dynamic parameters of steam and gas flow in the flow of the substrate during vapor deposition of coatings in a flow reactor. The kinetic features of deposition of boron carbide in the system BCl₃-C₇H₈-H₂.
 
Date 2018-06-15T18:39:11Z
2018-06-15T18:39:11Z
2017
 
Type Article
 
Identifier Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора / А.Ю. Журавлев, А.В. Шиян, Н.А. Семенов, Б.М. Широков // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 2. — С. 156-159. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
1562-6016
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136048
620.197:621.165.669.1
 
Language ru
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України