Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення
|
|
| Creator |
Дурягіна, З.А.
Підкова, В.Я. |
|
| Description |
З використанням іонно-плазмової розрядної системи одержано діелектричні шари нітриду алюмінію, що мають нанорозмірну структуру. Товщина шарів коливається від 35 до 50 μm при розмірі зерен 60…400 nm. Шорсткість поверхні при цьому знаходиться в межах 12…20 μm. Діелектричний шар складається з фази AlN структурного типу ZnO з періодом комірки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фази текстуровані за напрямком [001]. С использованием ионно-плазменной разрядной системы получено диэлектрические слои нитрида алюминия, которые имеют наноразмерную структуру. Толщина слоев колеблется от 35 до 50 μm при размере зерен 60…400 nm. Шероховатость поверхности при этом находится в пределах 12…20 μm. Диэлектрический слой состоит из фазы AlN структурного типа ZnO с периодом ячейки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фазы текстурированны по направлению [001]. Using the ion-plasma discharge system the aluminium nitride dielectric films with nanoscale structure were obtained. The thickness of layers varies from 35 to 50 μm with a grain size of 60…400 nm. Surface roughness is 12…20 μm. Type of crystal lattice is ZnO with periods a = 3.10 Å, c = 4.998 Å. Grains of phase are textured in direction [001]. |
|
| Date |
2018-06-15T18:53:44Z
2018-06-15T18:53:44Z 2013 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення / З.А. Дурягіна, В.Я. Підкова // Фізико-хімічна механіка матеріалів. — 2013. — Т. 49, № 3. — С. 74-79. — Бібліогр.: 9 назв. — укp.
0430-6252 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136065 |
|
| Language |
uk
|
|
| Relation |
Фізико-хімічна механіка матеріалів
|
|
| Publisher |
Фізико-механічний інститут ім. Г.В. Карпенка НАН України
|
|