Запис Детальніше

Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma
 
Creator Tolstolutskaya, G.D.
Kuprin, A.S.
Voyevodin, V.N.
Nikitin, A.V.
Ovcharenko, V.D.
Belous, V.A.
Vasilenko, R.L.
Kopanets, I.E.
 
Subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
 
Description The surface topography and deuterium retention in W, Ta and W-Ta coatings under the influence of low-energy deuterium plasma was studied. It was observed formation of blisters as dome and burst or delaminated structures. The W-Ta coatings showed improved characteristics: smaller sizes and density of blisters and a significantly lower thickness of the delaminated layer.
Вивчено зміну топографії поверхонь покриттів W, Ta і W-Ta і вміст дейтерію під дією частинок низькоенергетичної водневої плазми. Спостерігалося утворення блістерів куполоподібної форми, відшарування та лущення. Покриття W-Ta показали поліпшені характеристики: менші розміри і знижену густину блістерів і значно меншу товщину відшарованого шару.
Изучены изменение топографии поверхности покрытий W, Ta и W-Ta и накопление дейтерия под действием частиц низкоэнергетической дейтериевой плазмы. Наблюдалось образование блистеров куполообразной формы, отслаивание и шелушение. Покрытия W-Ta показали улучшенные характеристики: меньшие размеры и плотность блистеров и значительно уменьшенную толщину отслаиваемого слоя.
 
Date 2018-06-16T06:13:20Z
2018-06-16T06:13:20Z
2017
 
Type Article
 
Identifier Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, V.N. Voyevodin, A.V. Nikitin, V.D. Ovcharenko, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, I.E. Kopanets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 5. — С. 83-90. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.
1562-6016
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136153
669.017:539.16
 
Language en
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України