Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
|
|
| Creator |
Вакив, Н.М.
Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. |
|
| Subject |
Технологические процессы
|
|
| Description |
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.
The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed. |
|
| Date |
2018-07-15T11:32:07Z
2018-07-15T11:32:07Z 1998 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/140779 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
| Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|