Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
|
|
| Creator |
Старокадомський, Д.Л.
|
|
| Subject |
Фотохімічні перетворення на поверхні
|
|
| Description |
Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення змінює форму отверділої області при полімеризації товстих шарів в обмежених об’ємах, що пояснюєтьс янерівномірністю розподілу світла в наповненій композиції. На основі експериментальни хданих запропоновано модель специфічного світлорозподілу в наповненій кремнеземами композиції.
The influence of the high disperse silicas on the la2er-going photopol2merisation process of ol2goesteracr2lates is considered. It 0as found that filling 0ith silica does not change the la2er-going character of photohardening but decreases the rate of the process and e1treme thickness of the hardened la2er. The filling changes the form of the hardening region at pol2meri3ation of thick la2ers of composites 0hat ma2 be e1plained b2 especial light-distribution in the filled composition. The e1periment-based model of specific light-distribution in the filled composition is proposed. |
|
| Date |
2019-02-08T14:52:41Z
2019-02-08T14:52:41Z 2003 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр.
2617-5975 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 66.095.265:541.013 |
|
| Language |
uk
|
|
| Relation |
Поверхность
|
|
| Publisher |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
|
|