Оптимізація режимів нанесення фоторезисту
Електронного архіву Харківського національного університету радіоелектроніки (Open Access Repository of KHNURE)
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Оптимізація режимів нанесення фоторезисту
|
|
| Creator |
Письменецький, В. О.
Профатіло, О. С. Райков, О. |
|
| Subject |
фоторезист
оптимізація дисперсійний аналіз |
|
| Description |
В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостей |
|
| Date |
2018-10-30T12:20:05Z
2018-10-30T12:20:05Z 2018 |
|
| Type |
Abstract of Thesis
|
|
| Identifier |
Письменецький В.О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В.О. Письменецький, О. Профатіло, В. Райков // II Міжн. нук.-техн. конф. «Виробництво & Мехатронні системи» (M&MS-2018). – Харків, 2018. – С. 115–118.
http://openarchive.nure.ua/handle/document/7115 |
|
| Language |
uk
|
|
| Publisher |
ХНУРЕ
|
|