Запис Детальніше

Excitation of wakefield by a laser pulse in a metallicdensity electron plasma

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Excitation of wakefield by a laser pulse in a metallicdensity electron plasma
 
Creator Bondar, D.S.
Maslov, V.I.
Levchuk, I.P.
Onishchenko, I.N.
 
Subject Плазменная электроника
 
Description Since it is possible to form laser pulses with a frequency much larger than the frequency of visible light, Prof.
T.Tajima proposed using such pulse to accelerate the particles at its injection into the crystal. Here, the wakefield
excitation in the metallic-density plasma and the electron acceleration by laser pulse are simulated. The accelerating
gradient has been obtained approximately 3TV/m. It is shown that, as in ordinary plasma, with time beam-plasma
wakefield acceleration is added to laser wakefield acceleration.
Оскільки можна формувати лазерні імпульси з частотою, значно більшою частоти видимого світла, проф.
T. Tajima запропонував використовувати такий імпульс для прискорення частинок при інжекції його в кристал. Тут промодельовано збудження в плазмі металевої щільності кільватерного поля і прискорення електронів лазерним імпульсом. Отримано темп прискорення близько 3 ТВ/м. Показано, що, як й у звичайній
плазмі, з часом до лазерного кільватерного прискорення додається пучково-плазмове кільватерне прискорення.
Поскольку можно формировать лазерные импульсы с частотой, значительно большей частоты видимого
света, проф. T. Tajima предложил использовать такой импульс для ускорения частиц при инжекции его в
кристалл. Здесь промоделировано возбуждение в плазме металлической плотности кильватерного поля и
ускорение электронов лазерным импульсом. Получен темп ускорения около 3 ТВ/м. Показано, что, как и в
обычной плазме, со временем к лазерному кильватерному добавляется пучковое кильватерное ускорение.
 
Date 2019-02-18T19:40:24Z
2019-02-18T19:40:24Z
2018
 
Type Article
 
Identifier Excitation of wakefield by a laser pulse in a metallicdensity electron plasma / D.S. Bondar, V.I. Maslov, I.P. Levchuk, I.N. Onishchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 156-159. — Бібліогр.: 49 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148828
 
Language en
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України