Запис Детальніше

Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes
 
Creator Veklich, A.N.
Kleshich, M.M.
Fesenko, S.O.
Boretskij, V.F.
Kryachko, L.A.
 
Subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
 
Description The intensity of erosion processes of asymmetric single-component Cu and Ni electrodes of the free burning
electric arc at current of 30 A is studied by measurements of a content metals vapour in plasma column. Optical
emission spectroscopy was used to determine the radial distributions of plasma temperature and electron density in the
middle section of a discharge gap. These experimentally obtained data were used in the calculation of equilibrium
plasma composition. So, the evaporation intensity of each electrode material can be estimated in such indirect way.
Досліджували інтенсивність ерозійних процесів вільноіснуючої електричної дуги струмом 30 А між
асиметричними однокомпонентними Cu- та Ni-електродами. У середньому поперечному перерізі розрядного
проміжку за допомогою оптичної емісійної спектроскопії вимірювали радіальні розподіли температури та
електронної концентрації, які використовували для розрахунку рівноважного складу плазми. Отже, у такий
непрямий спосіб може бути оцінена інтенсивність випаровування електродного матеріалу.
Исследовали интенсивность эрозионных процессов свободногорящей электрической дуги силой тока
30 А между асимметричными однокомпонентными Cu- и Ni-электродами. В среднем сечении разрядного
промежутка с помощью оптической эмиссионной спектроскопии измеряли радиальные распределения
температуры и электронной концентрации, которые были использованы для расчета равновесного состава
плазмы. Таким косвенным образом может быть оценена интенсивность испарения электродного материала.
 
Date 2019-02-18T20:31:33Z
2019-02-18T20:31:33Z
2018
 
Type Article
 
Identifier Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes / A.N. Veklich, M.M. Kleshich, S.O. Fesenko, V.F. Boretskij, L.A. Kryachko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 233-236. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.70.-m, 52.80.Mg
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148859
 
Language en
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України