Запис Детальніше

Вибір параметрів шліфування плазмових покриттів при багатокритеріальній оптимізації технологічного процесу

Цифровой репозитарии Национального технического университета "Харьковский политехнический институт" (eNTUKhPIIR)

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Вибір параметрів шліфування плазмових покриттів при багатокритеріальній оптимізації технологічного процесу
 
Creator Тонконогий, В. М.
Рибак, О. В.
 
Subject математична модель
критерії оптимальності
технологічні параметри
енергія
multi-objective optimization
mathematical model
plasma coatings
optimum criteria
 
Description Для постановки задачі вибору технологічних параметрів шліфування плазмових покриттів розглянуто низку умов, що гарантують необхідну якість обробленої поверхні. Критерії оптимальності визначені на основі аналізу продуктивності процесу обробки, а також втрат матеріалу покриття на припуски. Згідно з побудованою математичною моделлю процесу шліфування, представлено цільові функції, варіативні параметри та систему обмежень для даної задачі.
A number of conditions that ensure quality of the processed surface are considered in order to state a problem of technological parameters selection for plasma coatings grinding process. Optimum criteria are determined on the basis of the analysis of processing productivity and allowance loss of coating material. Objective functions, variable parameters and the system of constraints are presented according to the mathematical model of the grinding process.
 
Date 2019-03-20T09:06:37Z
2019-03-20T09:06:37Z
2018
 
Type Article
 
Identifier Тонконогий В. М. Вибір параметрів шліфування плазмових покриттів при багатокритеріальній оптимізації технологічного процесу / В. М. Тонконогий, О. В. Рибак // Резание и инструменты в технологических системах = Cutting & tools in technological systems : междунар. науч.-техн. сб. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2018. – Вып. 89. – С. 190-197.
http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/40320
 
Language uk
 
Format application/pdf
 
Publisher Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"