Фазовые портреты деформационных эффектов в полупроводниках в импульсном режиме
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Фазовые портреты деформационных эффектов в полупроводниках в импульсном режиме
|
|
| Creator |
Дадамирзаев, М.Г.
Гулямов, А.Г. |
|
| Description |
Исследовано токи в компенсированном p-Si под воздействием прямоугольного импульса гидростатического давления. Процесс возникновения и установления анализировался методом фазовых траекторий. Показано, что фазовые траектории могут быть рассмотрены как термодинамический круговой процесс. Эти термодинамические циклы деформационных эффектов в полупроводниках удобно изображать на фазовых портретах, которые образованны из совокупности разных изопроцессов.
Досліджено струми в компенсованому p-Si під впливом прямокутного імпульсу гідростатичного тиску. Процес виникнення та встановлення аналізувався методом фазових траєкторій. Показано, що фазові траєкторії можуть бути розглянуті як термодинамічний круговий процес. Ці термодинамічні цикли деформаційних ефектів у напівпровідниках зручно зображувати на фазових портретах, які створені із сукупності різних ізопроцесів. Investigated currents in compensated p-Si exposed rectangular pulse of hydrostatic pressure. The process of establishing and studied by the method of phase trajectories. It is shown that the phase trajectories can be considered as a thermodynamic cyclic process. These thermodynamic cycles of deformation effects in semiconductors is convenient to represent the phase portrait that education of the totality of izoprotsessov. |
|
| Date |
2016-06-08T16:42:40Z
2016-06-08T16:42:40Z 2012 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Фазовые портреты деформационных эффектов в полупроводниках в импульсном режиме / М.Г. Дадамирзаев, А.Г. Гулямов // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 371-374. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101873 621.362.1 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|