Запис Детальніше

Оценка макроскопических параметров твердотельной плазмы в полупроводнике

Наукові видання Харківського національного університету Повітряних Сил

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Оценка макроскопических параметров твердотельной плазмы в полупроводнике
Оцінка макроскопічних параметрів твердотільної плазми у напівпровіднику
The estimation of macroscopic parameters of solid plasma in a semiconductor
 
Creator Г.Ф. Коняхин
А.Ю. Мелашенко
А.М. Сотников
В.В. Белимов
Г.Ф. Коняхин
О.Ю. Мелашенко
O.М. Сотников
В.В. Белимов
G.F. Konjahin
A.Ju. Melashenko
A.M. Sotnikov
V.V. Belimov
 
Subject Загальні питання
УДК 623.62:621.315.5
 
Description Изложены основные подходы к определению основных макроскопических равновесных параметров полупроводникового слоя поглощающего покрытия радиоизотопного типа.
Викладені основні підходи до визначення основних макроскопічних параметрів напівпровідникового шару поглинаючого покриття радіоізотопного типу.
The basic approaches to the determination of the basic macroscopic parameters of the semiconductor layer of the radioisotopic type absorber are given in the article.
 
Publisher Харківський національний університет Повітряних Сил ім. І. Кожедуба
Харьковский национальный университет Воздушных Сил им. И. Кожедуба
Kharkiv national Air Force University named after I. Kozhedub
 
Date 2002
 
Type info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Рецензована стаття
 
Format application/pdf
 
Identifier http://www.hups.mil.gov.ua/periodic-app/article/4400
 
Source Системи обробки інформації. — 2002. — № 1(17). 228-231
Системы обработки информации. — 2002. — № 1(17). 228-231
Information Processing Systems. — 2002. — № 1(17). 228-231
1681-7710
 
Language rus
 
Relation http://www.hups.mil.gov.ua/periodic-app/article/4400/soi_2002_1_47.pdf