Розробка процесу дистанційного, локального, регулює мого за величиною і глибиною положення максимуму температури лазерного нагріву середовищ органічного походження і відповідного обладнання
DSpace at NTB NTUU KPI
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Розробка процесу дистанційного, локального, регулює мого за величиною і глибиною положення максимуму температури лазерного нагріву середовищ органічного походження і відповідного обладнання
|
|
| Creator |
Вишневська, І. Л.
Головко, Л. Ф. |
|
| Subject |
621.375.826
|
|
| Publisher |
Київ
НТУУ «КПІ» |
|
| Date |
2013-09-05T11:57:15Z
2013-09-05T11:57:15Z 2013 |
|
| Type |
Article
|
|
| Format |
C. 53-55
|
|
| Identifier |
Вишневська, І. Л. Розробка процесу дистанційного, локального, регулює мого за величиною і глибиною положення максимуму температури лазерного нагріву середовищ органічного походження і відповідного обладнання / І. Л. Вишневська, Л. Ф. Головко // Тези доповідей загальноуніверситетської науково-технічної конференції молодих вчених та студентів, присвяченої дню Науки. Секція «Машинобудування», підсекція «Лазерна техніка та фізико-технічні технології» / НТУУ «КПІ» ; за ред. О. Т. Сердітова, П. В. Кондрашева. – [Київ : НТУУ «КПІ»], 2013. – С. 53-55
http://ela.kpi.ua/handle/123456789/3584 |
|
| Source |
Тези доповідей загальноуніверситетської науково-технічної конференції молодих вчених та студентів, присвяченої дню Науки. Секція «Машинобудування», підсекція «Лазерна техніка та фізико-технічні технології» / НТУУ «КПІ» ; за ред. О. Т. Сердітова, П. В. Кондрашева. – [Київ : НТУУ «КПІ»], 2013. – 112 с.
|
|
| Language |
uk
|
|