Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии
DSpace at NTB NTUU KPI
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии
|
|
| Creator |
Петренко, А. И.
Молявко, А. С. |
|
| Subject |
62-82:658.512.011.56
|
|
| Publisher |
Київ
Век+ |
|
| Date |
2013-11-26T09:26:21Z
2013-11-26T09:26:21Z 2009 |
|
| Type |
Article
|
|
| Format |
С. 30-33
|
|
| Identifier |
Петренко А. И. Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии / А. И. Петренко, А. С. Молявко // Вісник НТУУ «КПІ». Інформатика, управління та обчислювальна техніка : збірник наукових праць. – 2009. – № 50. – С. 30–33. – Бібліогр.: 6 назв.
http://ela.kpi.ua/handle/123456789/6075 |
|
| Source |
Вісник НТУУ «КПІ». Інформатика, управління та обчислювальна техніка: збірник наукових праць
Вісник НТУУ «КПІ». Інформатика, управління та обчислювальна техніка |
|
| Language |
ru
|
|