Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”
eKhNUIR
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”
|
|
| Creator |
Лисовский, В.А.
|
|
| Subject |
физика плазмы
газовый разряд |
|
| Description |
Эти методические указания для лабораторных работ подготовлены для студентов физико-технического факультета, которые изучают курс “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем” на кафедре физических технологий физико-технического факультета. Лабораторные работы охватывают различные свойства высокочастотного газового разряда низкого давления (зажигание разряда в высокочастотном и комбинированном электрических полях, различные режимы горения высокочастотного разряда и т.д.). |
|
| Date |
2010-12-10T23:03:32Z
2010-12-10T23:03:32Z 2009 |
|
| Type |
Learning Object
|
|
| Identifier |
Лисовский В.А. Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”. – Х.: ХНУ имени В.Н. Каразина, 2009. - 24 с.
ББК 22.333я73 http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/1865 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
;ББК 22.333я73
|
|
| Publisher |
ХНУ имени В.Н. Каразина
|
|