Запис Детальніше

Положение остовного уровня Ge(3d5/2) в зависимости от конфигурации адсорбционных комплексов Ge на грани Si(001)(4×2)

DSpace at NTB NTUU KPI

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Положение остовного уровня Ge(3d5/2) в зависимости от конфигурации адсорбционных комплексов Ge на грани Si(001)(4×2)
Положення остівного рівня Ge(3d5/2) в залежності від конфігурації адсорбційних комплексів Ge на грані Si(001)(4×2)
Core level position Ge(3d5/2) in dependence of the configuration adsorption Ge complexes on the face of Si(001)(4×2)
П'ята міжнародна наукова-практична конференція «Комп’ютерне моделювання в хімії і технологіях та системах сталого розвитку»
 
Creator Ткачук, О. И
Теребинская, М. И.
Лобанов, В. В.
Ткачук, О. І.
Теребінська, М. І.
Лобанов, В. В.
Tkachuk, O.
Terebinska, M.
Lobanov, V.
 
Subject гетеропереходы
остовные уровни
буклированная поверхность
димеризованная поверхность
гетеропереходи
остівні рівні
букльована поверхня
димеризована поверхня
heterojunctions
core levels
buckled surface
surface dimers
54118:544:72
 
Publisher Київ
НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорського»
 
Date 2016-12-15T12:28:19Z
2016-12-15T12:28:19Z
2016
 
Type Article
 
Format С. 171-176
 
Identifier Ткачук, О. И. Положение остовного уровня Ge(3d5/2) в зависимости от конфигурации адсорбционных комплексов Ge на грани Si(001)(4×2) / О. И. Ткачук, М. И. Теребинская, В. В. Лобанов // Комп’ютерне моделювання в хімії і технологіях та системах сталого розвитку – КМХТ-2016 : збірник наукових статей П’ятої міжнародної науково-практичної конференції, 18-20 травня 2016 року, м. Київ. – Київ : НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорського», 2016. – С. 171-176. – Бібліогр.: 6 назв.
http://ela.kpi.ua/handle/123456789/18316
 
Source Комп’ютерне моделювання в хімії і технологіях та системах сталого розвитку – КМХТ-2016 : збірник наукових статей П’ятої міжнародної науково-практичної конференції
 
Language ru